1、選題范圍：磁、光記錄材料，鹵化銀、非鹵化銀感光材料，熱敏、數碼成像材料，輻射固化材料，噴墨、激光打印材料等有關信息記錄材料的基礎理論研究成果、新技術和新材料開發、存儲技術與記錄介質、綜述等。

2、來稿應論點明確，數據可靠，文字精練，字跡清楚，各欄目稿件均需附中、英文題名摘要（應詳細敘述來稿的研究目的、實驗方法和主要結果及數據），并在其后列出3～5個關鍵詞（關鍵詞應盡量從《漢語主題詞表》和各專業主題詞表中選取），請附作者簡要介紹，每篇稿件請指定一位通訊聯系人。

3、外文字母的大、小寫和正斜體要分清，希臘文要寫清并注明；符號上下角的高低位置應明確區別，例如；凡國內尚未用過的譯名，請在譯名后附原文，外國人名及企業名稱直接用外文，不要譯成中文。

4、文中插圖數量最多不超過5幅，插圖貼在正文相應處，圖中線條要均勻、整潔，文字和符號要清晰，圖題需中、英文對照；文中表格使用三線表（不用豎線），表題需中、英文對照。

5、正文中引用的參考文獻序號寫在文字右上角方括號內，未公開發表的文獻資料請勿引用，參考文獻著錄項目。

專利格式：專利申請者.題名[P].專利國別，專利號，年-月-日.

6、來稿使用的量、單位及其符號應一律符合《中華人民共和國國家標準》。

7、來稿一律文責自負，保證來稿為首發稿件。

8、翻譯文章自行解決著作權問題，必須附有原文，編譯文章也應附主要參考文獻。

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